Çin’in gizli yürüttüğü “Manhattan Projesi”, ABD yaptırımlarına rağmen ülkeyi yarı iletken bağımsızlığına beklenenden daha erken yaklaştırdı.
Haber Giriş Tarihi: 19.12.2025 21:48
Haber Güncellenme Tarihi: 19.12.2025 21:51
Kaynak:
Haber Merkezi
https://haberdeger.com/
ABD ile Çin arasında yıllardır süren teknoloji savaşında dikkat çekici bir gelişme yaşandı. Reuters’a göre Çin, Shenzhen’de kurulan yüksek güvenlikli bir laboratuvarda, aşırı ultraviyole (EUV) litografi makinesinin prototipini tamamladı.
Huawei koordinasyonunda yürütülen ve binlerce mühendisin görev aldığı gizli hükümet projesi, eski ASML mühendislerinin de katkısıyla hayata geçirildi. 2025 başında tamamlanan prototip, henüz işlevsel çip üretemese de EUV ışığını başarıyla oluşturabiliyor.
Bu devasa makine, yapay zeka, akıllı telefon ve askeri teknolojilerde kullanılan ileri düzey yarı iletkenlerin üretimi için kritik öneme sahip. Resmi hedef 2028 olarak açıklansa da, kaynaklar seri çip üretimi için 2030 yılını daha gerçekçi görüyor.
Analistler, bu gelişmenin Çin’in yarı iletken alanında dışa bağımlılığı azaltma yolunda önemli bir eşik olduğunu belirtirken, optik sistemler gibi bazı teknik engellerin hâlâ aşılması gerektiğine dikkat çekiyor.
Sizlere daha iyi hizmet sunabilmek adına sitemizde çerez konumlandırmaktayız. Kişisel verileriniz, KVKK ve GDPR
kapsamında toplanıp işlenir. Sitemizi kullanarak, çerezleri kullanmamızı kabul etmiş olacaksınız.
En son gelişmelerden anında haberdar olmak için 'İZİN VER' butonuna tıklayınız.
Çin’in gizli Manhattan Projesi
Çin’in gizli yürüttüğü “Manhattan Projesi”, ABD yaptırımlarına rağmen ülkeyi yarı iletken bağımsızlığına beklenenden daha erken yaklaştırdı.
ABD ile Çin arasında yıllardır süren teknoloji savaşında dikkat çekici bir gelişme yaşandı. Reuters’a göre Çin, Shenzhen’de kurulan yüksek güvenlikli bir laboratuvarda, aşırı ultraviyole (EUV) litografi makinesinin prototipini tamamladı.
Huawei koordinasyonunda yürütülen ve binlerce mühendisin görev aldığı gizli hükümet projesi, eski ASML mühendislerinin de katkısıyla hayata geçirildi. 2025 başında tamamlanan prototip, henüz işlevsel çip üretemese de EUV ışığını başarıyla oluşturabiliyor.
Bu devasa makine, yapay zeka, akıllı telefon ve askeri teknolojilerde kullanılan ileri düzey yarı iletkenlerin üretimi için kritik öneme sahip. Resmi hedef 2028 olarak açıklansa da, kaynaklar seri çip üretimi için 2030 yılını daha gerçekçi görüyor.
Analistler, bu gelişmenin Çin’in yarı iletken alanında dışa bağımlılığı azaltma yolunda önemli bir eşik olduğunu belirtirken, optik sistemler gibi bazı teknik engellerin hâlâ aşılması gerektiğine dikkat çekiyor.
En Çok Okunan Haberler